真空泵入口分离器的排水口有助于ALD过程的过滤
24.01.2023
Mass-Vac, Inc.，总部位于美国马萨诸塞州北比勒里卡，发布了一种新的真空入口分离器进水管排水连接选项，用于使用ALD(原子层沉积)技术的半导体晶圆厂。
真空泵入口分离器的排水口有助于ALD过程的过滤。(图片来源:Mass-Vac, Inc.)
用于ALD工艺的MV MultiTrap真空进口分离器现在可以在分离器的进口管道上配备排水连接。集成的针形阀允许环境空气进入入口管，以启动TMA和H2O前驱体之间的反应。反应产生的固体AL2O3粉末被一个长，单级，不锈钢纱布过滤器捕获。该工艺已被证明在去除大量固体副产品方面非常有效。
带排水连接的MV MultiTrap真空入口分离器完全由不锈钢1.4301 (AISI 304)制成，并具有高容量的前置级。它们有304.8mm和406.4mm(12”和16”)直径，并提供NW-50, ISO-80, ISO-100和ISO-160法兰的进口和出口连接。排泄口可提供NW-10和NW-16法兰尺寸。
来源:Mass-Vac公司。
