CompactTurbo™-功能强大的新型真空泵

27.07.2005

四种型号的CompactTurbo™系列是正确的真空泵就业在涂层,半导体工业,研究和开发,以及众多的工业应用。

CompactTurbo™-功能强大的新型真空泵

新紧凑型涡轮由Pfeiffer真空(图片:Pfeiffer真空)。

它们的特点是对轻气体(H2, HE)和重气体(Ar, CF4)的高泵送速度为1000-2000升/秒。由于其紧凑的设计,泵只需要很少的空间。这些性能反映了涂层应用的高要求,特别是在半导体行业。创新的转子概念消除了额外的阻力级的需要。正因为如此,CompactTurbo™系列可以处理高颗粒应用。这意味着这些泵可以很容易地用于离子注入器以及EUV光刻,CVD和PVD工艺。

CompactTurbo™型号在防尘和喷雾水保护方面满足最高工业要求(IP 54)。此外,它们也符合半导体行业标准Semi F-47(电源故障)和E-74(机械/电气接口)。

创新的技术和长期的成本效益

稳健的轴承系统是>平均故障时间高达20万小时的基础。该泵具有简单的维护选择和较长的维护间隔,因此运行成本低,使用寿命长。广泛的附件系列使泵能够适应客户和工艺需求,如腐蚀工艺。可选可用的集成电源确保简单集成到应用程序。这样就不需要单独的机架式电源或控制器了。

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