Ebara组织了第二届EOI CMP国际研讨会
讲师聚会(图片来源:Ebara Corporation)
研讨会还面向外部研究人员和Ebara内部的工程师和研究人员,为他们提供了一个自由讨论相关话题的机会,增进相互了解和合作,以进一步的技术发展和研究成果的商业应用。
讲座结束后,在今年的研讨会上进行了小组讨论。它是通过听众和演讲者之间的讨论交流意见来促进更好的理解。外部专家郑教授(釜山大学)、黑川教授(九州大学)、协会会长等6人。铃木教授(名古屋大学),Amagai教授(群马大学),日本社会科学院院士。Sanada教授(静冈县大学)邀请了kajornrungruang教授(九州工业大学)。观众包括来自Ebara的100多名工程师和研究人员,以及担任主持人的公司员工。讨论了cmp相关技术在科学中的应用问题。
为了通过内部和外部研究人员之间的合作为技术发展做出贡献,EOI研讨会是EHU(埃巴拉高科技大学)活动的一部分。EHU举办讲座,邀请国内外的研究人员,包括参与EOL (Ebara开放实验室)合作研究的人员。埃巴拉不断更新最新的技术、研发,为我们进一步增强技术实力。
来源:EBARA公司