Pfeiffer真空提出新的真空解决方案

全新A4系列干泵

A4系列的干式多级罗茨泵的泵送速度为100 ~ 1700立方米/小时。这些高效和可靠的泵是理想的使用在半导体和涂料行业的苛刻过程。采用耐腐蚀材料和高气体吞吐量，该泵系列最适合用于CVD工艺，例如。

新型干式泵A 200升

尽管它的尺寸小，新的干式多级A 200 L罗茨泵提供了高泵送速度和非常短的泵停机时间。这种干式泵适用于洁净室的操作，是清洁应用的理想选择，如负载锁和传输室，以及所有其他非腐蚀性应用。a200l的进一步特点是易于集成到半导体生产线，特别是其节能操作。

新型ATH 2804 M和ATH 3204 M磁悬浮涡轮泵

在ATH-M系列的磁悬浮涡轮泵中，一个5轴主动磁轴承监测转子的位置。这种高质量的轴承技术结合了长期稳定和可靠性与极其安静的操作。鉴于这些高真空泵的工艺设备及其优异的泵送速度，它们非常适合用于半导体生产，特别是蚀刻工艺，以及许多其他工业应用。

Pfeiffer真空也在Semicon China展出

2014年3月18日至20日在上海举行。