Pfeiffer真空提供创新的真空解决方案

A4系列干式泵

A4系列的干式多级罗茨泵提供100至2300立方米/小时的泵送速度。这些高效和可靠的泵是理想的使用在半导体和涂料行业的苛刻过程。采用耐腐蚀材料和高气体吞吐量，该泵系列最适合用于CVD工艺，例如。

涡轮泵HiPace 2800 IT

随着HiPace 2800 IT Pfeiffer真空提出了一个特别专用于离子注入应用的涡轮泵。涡轮泵的复杂转子设计，使轻气体的泵送速度得到优化。这确保了非常好的工艺适应离子注入过程，氢气是最积累的气体。新HiPace 2800 IT具有2750升/秒的氢气泵送速度，是同级最好的涡轮泵。

智能温度管理系统防止过程凝结和沉积在泵系统内。它允许单独设置温度，以理想地支持过程。转子的特殊涂层确保了对所有离子注入过程材料的鲁棒性。HiPace涡轮泵基于所谓的混合轴承，即前真空侧的陶瓷球轴承和高真空侧的永磁径向轴承的组合，这些HiPace涡轮泵具有特别坚固的轴承设计。加上高效的涂层，这构成了泵的长寿命周期和最大运行时间的基础。

磁悬浮涡轮泵ATH 2804 M和ATH 3204 M

ATH-M泵为非加热应用提供超过5000 sccm氮气的气体吞吐量。在腐蚀应用中，它们还允许高达1500 sccm的氩气和65°C的泵工作温度非常高。该泵可在高达85°C的高温下工作，用于副产物沉积敏感工艺的最苛刻应用。这些泵包括集成驱动电子设备，以确保占地面积小，方便即插即用安装。dn320法兰型号的总高度小于400mm。由于采用了新的电子设备，泵可以在8分钟内启动和停止。主动磁悬浮轴承和自动失衡补偿使ATH-M泵无磨损和低振动运行。它们无需维护，不需要润滑。转子连续稳定，性能可靠。额定转速下的低功耗和极低的冷却水消耗(1升/分钟)也是新型ATH-M泵的特点。